Tantaalifolion tiheys on 16,6 g/cm³, mikä osoittaa suurta tiheyttä; Sulamispiste on noin 3017 astetta C ja korkean lämpötilan kestävyys on erittäin erinomainen; Alhainen lämpölaajenemiskerroin, hyvä mittastabiilius lämpötilan muutoksissa; Sillä on myös hyvä johtavuus ja lämmönjohtavuus. Fluorivetyhapon ja kuuman väkevän rikkihapon lisäksi tantaalifoliolla on vahva vastustuskyky muita happoja ja kemiallisia liuottimia vastaan, ja se voi säilyttää stabiilisuuden erilaisissa kemiallisissa ympäristöissä; Huoneenlämmössä tantaalifolion pinnalle muodostuu tiheä oksidikalvo estämään hapettumista lisää. Tantaalifolio voi myös säilyttää hyvän kemiallisen stabiilisuuden korkeissa lämpötiloissa tai tietyissä kemiallisissa ympäristöissä.
Tantaalifolio on ohut tantaalimetallimateriaalilevy, jonka paksuus vaihtelee tyypillisesti 0,001 millimetristä 0,5 millimetriin.
Sen sulamispiste on jopa 2 996 astetta, joten se voi säilyttää vakaan suorituskyvyn korkeissa lämpötiloissa, ja sitä voidaan käyttää korkean -lämpötilojen kestävien komponenttien valmistukseen. Tiheys on noin 16,6 g/cm³, korkea lujuus ja hyvä iskunkestävyys. Lämpölaajenemiskerroin on hyvin pieni, laajenee vain 6,6 miljoonasosaa jokaista Celsius-astetta kohden. Se voi säilyttää alkuperäisen muotonsa ja ominaisuudet korkeassa lämpötilassa ja korkeassa paineessa, mikä vähentää lämpörasituksen vaikutusta. Se kestää hyvin happoja, emäksiä ja klorideja, eikä se toimi emäksisille liuoksille, kloorikaasulle, bromivedelle, laimealle rikkihapolle ja monille muille kemikaaleille huoneenlämpötilassa. Sitä voidaan käyttää korroosionkestävien -laitteiden valmistukseen. Se voi muodostaa tiheän oksidikalvon ilmaan, mikä parantaa entisestään sen korroosionkestävyyttä ja vakautta. Tantaalifolio on helppo työstää ohuiksi levyiksi tai ohuiksi langoiksi, sillä on hyvä kylmätyöstökyky, ja siitä voidaan valmistaa erimuotoisia ja -kokoisia tuotteita prosesseilla, kuten valssauksella ja leimaamalla. Vaikka tantaalilla on suhteellisen alhainen kovuus, tantaalikalvolla on korkea lujuus ja sitkeys, ja se kestää tiettyjä ulkoisia voimia ja muodonmuutoksia rikkoutumatta.
Sirujen valmistuksessa voidaan valmistaa erittäin ohuita johtavia kerroksia tai sulkukerroksia, ja niitä voidaan käyttää myös korkean{0}}k dielektristen elektrodien valmistukseen DRAMissa kapasitanssin suorituskyvyn parantamiseksi. Se on ihanteellinen valinta monikerroksisten -keraamisten kondensaattoreiden elektrodimateriaaleille. Tantaalielektrolyyttikondensaattoreissa dielektrinen kerros syntyy anodisoimalla, jolloin saavutetaan korkea kapasitanssitiheys ja pieni vuotovirta. Se soveltuu korkea-jännitteen ja korkean taajuuden-skenaarioihin, kuten 5G-tukiasemiin ja ajoneuvoelektroniikkaan. Hyvän bioyhteensopivuuden ja korroosionkestävyyden ansiosta sitä voidaan käyttää ortopedisten luunaulojen, luulevyjen, kardiovaskulaaristen stenttien jne. valmistukseen. Pinnalla oleva huokoinen tantaalikalvo voi myös edistää kudosten kasvua; Hammasimplanttien osalta ihmiskudosten kanssa ei tapahdu hylkimisreaktiota. Voidaan käyttää päällystysmateriaalina tai jäähdytysputkistona ydinreaktoreissa, joilla on korkean lämpötilan kestävyys ja säteilynkestävyys; Sitä voidaan käyttää myös ydinjätesäiliöiden suojakerroksena.
