Nikkeli-vanadiinin sputterointikohde

Nikkeli-vanadiinin sputterointikohde

1. Attribuuttien nimi: Nikkeliseoksen ruiskutuskohteet
2. Tuotteen nimi: nikkeli-vanadiiniruiskutuskohde
3. Elementin symboli: Ni plus V
4. Puhtaus: 3N, 3N6, 4N
5. Muoto: Tasokohde, Pyörivä kohde
Lähetä kysely
Tuotteen esittely

Nikkeli-vanadiiniruiskutuskohteen valmisteluprosessi
Metallografinen tarkastus, tyhjiöinduktiosulatus, kemiallinen analyysi, taonta, valssaus, hehkutus, koneistus, mittatarkastus, puhdistus, lopputarkastus ja pakkaus ovat joitain vaiheita materiaalin valmistuksessa.

 

Puhdasta kultaa käytetään tyypillisesti liitosmetallina integroitujen piirien valmistuksessa, ja se kerrostetaan piikiekolle. Kulta kuitenkin diffundoituu piikiekkoon ja muodostaa korkearesistenssin yhdisteen nimeltä AuSi, mikä vähentää merkittävästi johdotuksen virrantiheyttä ja johtaa koko johdotusjärjestelmän vikaantumiseen.
Siksi ehdotetaan, että piikiekkojen ja kultaisen ohuen levyn väliin lisätään liimakerros. Sulkukerros tarvitaan estämään diffuusio kultaa johtavan kerroksen ja nikkeliliimakerroksen välillä, koska liimakerros koostuu tyypillisesti puhtaasta nikkelistä, mutta siinä on myös diffuusiota nikkelikerroksen ja kultaa johtavan kerroksen välillä.

Vanadiini on valittu kerrostamaan sulkukerroksia sen korkean sulamispisteen ja korkean virrantiheyden vuoksi, joten nikkeli-, vanadiini- ja kultasputterointikohteita käytetään kaikkia integroitujen piirien valmistuksessa.
Sekä nikkelin että vanadiinin edut yhdistyvät Nickel Vanadium Sputtering Targetissa, jossa on 7 prosenttia vanadiinia, mikä mahdollistaa liimakerroksen ja suojakerroksen muodostumisen samanaikaisesti. NiV-metallin ei-magneettinen luonne tekee siitä ihanteellisen magnetronisputterointiin. Se on yhä enemmän syrjäyttämässä puhtaan nikkelin sputterointikohteita elektroniikkatietoteollisuudessa.

Nickel Vanadium Sputtering Target price

Luomamme erittäin puhtaan nikkeli-vanadium-sputtering Target -tuotteen merkittävimmät edut ovat kalvojesi poikkeuksellinen sähkönjohtavuus ja vähentynyt hiukkasten muodostuminen PVD-prosessin aikana.

Lisäksi voimme luoda kohteita, jotka on valmistettu erilaisista nikkelilejeeringeistä, mukaan lukien NiAl, NiCo, NiCu, NiCr, NiW, NiCrSi ja NiCrAl, erityisten koostumus-, mitta- ja hiukkaskokotarpeidesi mukaisesti.
 

Suositut Tagit: nikkeli vanadiini sputtering kohde, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, osta, hinta, tarjous, laatu, myytävänä, varastossa

Lähetä kysely

Etusivu

Puhelin

Sähköposti

Tutkimus