Tantaalilejeerinki - 111

Baoji Yusheng Metal valmistaa pääasiassa volframia, molybdeeniä, tantaalia, niobiumia, zirkoniumia, kromia, titaania, nikkeliä, vanadiinia, kobolttia, hafniumia ja niiden seoksia levyjen, levyjen, nauhojen, kalvojen, tankojen, lankojen, putkien ja muiden tavanomaisesti käsiteltyjen tuotteiden muodossa. profiilit sekä veneet, upokkaat, sputterointikohteet, pinnoitekohteet, koneistetut osat, korkean lämpötilan uunin eristysseulat, lämmityselementit, uunin rungot (lämmitysuunit, hehkutusuunit), korroosionkestävät laitteet ja muut syväkäsitellyt tuotteet. Tuotteita käytetään pääasiassa safiirikideuunien, tyhjiöuunien, monokiteisen piiuunin, puolijohde-ioni-istutuksen, metallijauheen ruiskupuristuksen, tyhjiöpinnoituksen, korkean lämpötilan uunin, lasikuidun, metallurgian, petrokemian, ilmailu-, lääke-, lääketieteellisten laitteiden, elintarvike-, meri-, auto-, rakennus-, teollisuuskeramiikka-, ympäristönsuojelu- ja muut teollisuudenalat. Tuotteitamme on myyty kaikkialla maailmassa, mukaan lukien Yhdysvallat, Japani, Saksa, Australia, Kanada, Kaakkois-Aasia ja muut alueet.

Seoksen koostumuksen vaikutukset haurastumisongelmien vähentämiseen tantaalilejeeringissä T-111

Tutkittiin tantaalilejeeringin - 111 ikääntymisen haurastumisen perimmäisiä syitä ja seoksen muutoksen vaikutusta. Tulokset paljastavat, että T-111:ssa on ratkaiseva volframin ja hafniumin suhde, joka saa aikaan sitkeyden heikkenemisen -196 C:ssa sen jälkeen, kun se on vanhentunut noin 1040 C:n lämpötilassa. Havaittiin, että tämä tapahtuu, koska volframi edistää hafniumin erittymistä. raerajoille, mikä lisää herkkyyttä vetyhaurastumiselle. Tantaalilejeeringit, joiden volframi- tai hafniumpitoisuudet ovat alhaisemmat, eivät osoittaneet ikääntymisen haurastumista; Siitä huolimatta suurimmalla osalla tutkittavista metalliseoksista on pienempi lujuus kuin T-111 ja ne ovat herkkiä vetyhaurastumiselle.

820 ja 990 °C:ssa happea syötettiin noin 0,0003 torrin paineessa. Menetelmä mahdollisti ennustettavan ja toistettavan tantaalilejeeringin happiseostuksen. (T-111). Dopingreaktion lämpötilariippuvuuden mukaan happiliuos T-111-hilassa säätelee mitä todennäköisimmin ensimmäisiä hapenottonopeuksia. Seostetuissa näytteissä vallitsevat tantaali- ja volframioksidit, johtuen seoksen suuremmista tantaali- ja volframimääristä huolimatta siitä, että hafniumoksidit ovat stabiilimpia kuin tantaali tai volframi. Kuitenkin korkean lämpötilan hehkutus edistää hafniumoksidien muodostumista edistämällä muiden oksidien ja liuenneen hapen hapettumista.