Nimi: Tantalum (TA -tavoite)
Tyyppi: Tasokohde, monitarkikohde, pyöreä kohde, pyörivä kohde
Viljakoko: 45 mikronia
Puhtaus: 99,99%, 99,999%
Pinnan karheus: ras 0. 8um (sputterointipinta), ras6.4um (metallointia varten)
Kohdekoko φ25, 3 0, 40, 50,5, 60, 76,2, 80, 100, 101,6mm, t: 0. 2-10 mm, jne.
Sovellettavat laitteet tantaalitavoitteeseen: sovellettavissa erilaisiin yksikohteisiin ruiskutusjärjestelmiin, monitasoiseen ruiskutusjärjestelmiin, ionin sputterointijärjestelmiin ja muihin Pohjois-Huachuangin, Zhongke Keyin, Shenyang Keyin, China Electronics Technology, Mikroelektroniikan instituutti, Jinsheng-mikro-nano-, Technon Denton Excuum, jne.
Tantaali Kohdesovellusalueet: tuotanto- ja tieteelliset tutkimussovellukset, optiikka, mikro-nano-prosessointi, laitteet ja muut teollisuudenalat, joita käytetään laajasti puolijohdesiruissa, aurinkoenergialla
Tyyppi: Litteä kohde, monitarkikohde, pyöreä kohde, pyörivä kohde, litteä näyttö, erityinen pinnoite ja muut pinnoitetuotteet.
Yhteyshenkilö: Kelly
Sähköposti: kd@tantalumysjs.com
Whatsapp\/skype: +86 13379388917
Puhelin\/wechat: +86 13379388917
Faksi: 0917-3139100
Viestikoodi: 721013
Web: www.tantalumysjs.com
Lisää: Wenquan Village Industrial Zone, Gaoxin -kehitysvyöhyke, Baoji City, Shaanxin maakunta, Kiina
